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元佳宇有限公司
加入時間:2010-02-22資本額:18328萬
瀏覽次數:528by:元佳宇
CH2F2
Halocarbon 32 / Difluoromethane Application Halocarbon 32 is used in the etching applicati
Halocarbon 32 / Difluoromethane
Application
Halocarbon 32 is used in the etching application for DRAM and Semiconductor industry.
Product Specification
Purity 99.99%
N2 40
O2 10
H2O 10
OHC 60
HF 0.1
*ppm
Application
Halocarbon 32 is used in the etching application for DRAM and Semiconductor industry.
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金屬粉末產品系列:(1)金鋼石合成用觸媒粉> SFeNi30----適用於各類金剛石制品，作為基礎粉加入(2)基礎
關鍵字:
#CH2F2#CVD#Halocarbon#difluorometh#etch#二氟甲烷#蝕刻