CHF3
Halocarbon 14 / Trifluoromethane Application Halocarbon 14 is combined with oxygen to etch
Halocarbon 14 / Trifluoromethane
Application
Halocarbon 14 is combined with oxygen to etch polysilicon, silicon dioxide, silicon nitride, some metals and metal silicides. It can be combined with Halocarbon 116 (C2F6) or used alone to clean wafers and chambers.
Product Specification
Purity 99.999%
N2 5
O2 1
CO2 0.5
CO 0.5
H2O 1
SF6 1
OHC 1
HF 0.1
*Unit: ppm
相關產品
相關服務
-
特殊氣體 - 材料 電子級特殊氣體
工業氣體、特殊氣體、電子氣體、特殊化學品、有機金屬、雷射切割
-
相關詢價
-
美國礦山開採報價!!
來自:AOOyOOo 詢價
***ingbusiness@ymail.com
-
你好除霉菌請報價!!
來自:李OO 詢價
***nio668@gmail.com
-
Citifluor Af1 - Pack: 25 mL 產品詢價
來自:葡OO生OO份OO公O 詢價
***ting.lin@grapeking.com.tw
~~~~~~日本富士電機MINI系列變頻器價格絕對優惠!!!歡迎各公司行號詢價!!!詢價MAIL:c