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元佳宇有限公司
加入時間:2010-02-22資本額:18328萬
瀏覽次數:577by:元佳宇
CH3F
Halocarbon41 / Fluoromethane Application Halocarbon41 is used in the etching application f
Halocarbon 41 / Fluoromethane
Application
Halocarbon 41 is used in the etching application for DRAM and Semiconductor industry.
Product Specification
Purity 99.99%
N2 70
O2 20
H2O 10
HF 0.1
*ppm
Application
Halocarbon 41 is used in the etching application for DRAM and Semiconductor industry.
Product Specification
Purity 99.99%
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關鍵字:
#CVD#CH3F#Halocarbon#difluorometh#etch#一氟甲烷#蝕刻