電漿式高溫處理設備

KPL為電漿式(Plasma)高溫處理設備,最高溫度1300℃,可處理 CF4,SF6,CHF3,C2F6,NF3,SiH4,TEOS,N2O,SiH2Cl2,NH3,F2,B2H6,WF6,C3F

KPL為電漿式(Plasma)高溫處理設備,最高溫度1300℃ ,可處理
CF4,SF6,CHF3,C2F6,NF3,SiH4,TEOS,N2O,SiH2Cl2,NH3,F2,B2H6,WF6,C3F8,C4F8,O3,BCl3,HBr
等高溫難分解的氣體,體機小而不占空間,有國際品質認證標準

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